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金屬與合金材料
光洋深耕於儲存媒體產業用磁性材料、相變化材料，以及電子半導體產業用電阻材料之相關合金材料以及高純合金之研發，具有深厚合金研發能力與製造技術，在純度控制上可達到半導體規格等級。
- 磁性材料廣泛用於磁記錄媒體、磁性感測元件、磁性記錄頭、磁性記憶體(STT-MRAM)等領域。
- 光洋在磁性材料合金研發近20年，應用以鉑、釕為主之多達32種元素，已設計開發之合金超過3000種，合金組成可高達7種元素以上之合金系統。
- 在材料特性上著重合金之細晶微結構，可製作出高磁通量、高機械強度與濺鍍特性優異之濺鍍靶材。
- 如多元軟磁合金，可藉由微結構設計達到高強度、高功率濺鍍之製程需求。
- 如特殊靶面處理技術，可降低客戶初期濺鍍之微粒子汙染。
- 半導體製程節點持續微縮，對於製程材料的純度、細緻度與品質一致性等要求漸趨嚴格，同時對於合金材料的需求日益漸增。
- 光洋發展精煉純化、熔煉鑄造、粉末冶金與塑性成型技術，能提供高階半導體晶圓製造時所需的合金材料，符合超高純度、超潔淨度的要求，在材料顯微組織的控制上可達到細緻的晶粒分布與織構，此外在綠色製造的趨勢下，光洋也提供濺鍍靶材再生循環的技術與服務模式。
- 相變化材料廣泛用於光記錄與相變化記憶體(PCRAM)等領域。
- 光洋相變化材料應用元素達23種元素，包含記錄層常使用硫屬元素為主要成分如Te、Sb，開發出數百種合金，可設計製造5種以上元素之多元合金。
- 光洋善於合金配方調整材料之結晶或非晶化溫度與相變動力行為，可提供濺鍍靶材客製化開發需求。
- 密切配合客戶成分需求，客製化相關相變化合金材料。
- 電阻材料可應用於一般電阻與高電阻領域，包含一般電阻常用NiCr、CuNi合金材料，和高電阻CrSi合金材料。
- 光洋在電阻材料之添加元素經驗達20種以上，製作的合金具有優良的熱穩定性。
- 密切配合客戶成分需求，客製化相關電阻合金材料。